用于射频功率应用的氮化铝电阻元件(陶瓷電阻薄膜)

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2024-07-17
BeO/AlN陶瓷比较与BeO陶瓷相比,AlN在许多方面都很接近,由于应用的高功率性质,主要参数是导热性。表 1 列出了两种材料的特性。在电气学上,AlN 的介电常数高于 BeO,这导致电容部分略高。必须采用谨慎的布局和薄膜设计来减轻这种差异。应用AlN 电阻器和端子被设计为当今使用的现有 BeO 产品的直接替……

BeO/AlN陶瓷比较

与BeO陶瓷相比,AlN在许多方面都很接近,由于应用的高功率性质,主要参数是导热性。
表 1 列出了两种材料的特性。
在电气学上,AlN 的介电常数高于 BeO,这导致电容部分略高。
必须采用谨慎的布局和薄膜设计来减轻这种差异。

应用

AlN 电阻器和端子被设计为当今使用的现有 BeO 产品的直接替代品。
然后,这些AlN器件定义了一类通用的非BeO射频电阻功率产品。
应用包括射频功率放大器、隔离器、吸收滤波器、天线馈电和功率合路器。

用于射频功率应用的氮化铝电阻元件(陶瓷電阻薄膜)
(图片来源网络,侵删)

AlN 历史

AlN陶瓷在射频行业中作为通用的绝缘散热器和薄膜基板已使用多年。
传统上,AlN电阻器件采用薄膜技术构建;但由于薄膜工艺成本高昂,其应用受到限制。
随着无线行业的兴起以及随之而来的对具有成本效益和安全的BeO替代品的需求,制造商已转向成本较低的厚膜技术来满足需求。

厚膜AlN

氧化铝厚膜系统(Al2O3)和BeO是多年前开发的,一直是射频功率电阻行业的主力军。
铝2O3用于高达约 5 W 的功率水平,而 BeO 用于高达 800 W 的更高功率。
然而,厚膜技术向AlN陶瓷的转移并不是一件简单的事情。
为铝开发的厚膜电阻器和导体系统2O3和 BeO 不适用于 AlN 陶瓷,因为氧化铅玻璃键合系统发生在厚膜浆料和 Al 之间2O3或BeO陶瓷材料在烧制时,可被AlN陶瓷还原。
应用专为 Al 设计的厚膜浆料2O3或 AlN 陶瓷上的 BeO 将实现电阻器和金属膜对 AlN 陶瓷的不一致粘附,这通常归因于 AlN 陶瓷材料的不一致。
厚膜与陶瓷的粘附力是组件长期可靠性的关键。
由于无线行业最近对具有成本效益且安全的 BeO 替代品的需求,厚膜浆料制造商最近开发了厚膜 AlN 浆料系统。
使用这些浆料系统以及适当制备的 AlN 陶瓷基板,可以在 AlN 陶瓷基板上提供厚膜电阻元件的新产品。

厚膜附着力的另一个关键是AlN陶瓷材料的适当制备。
在AlN烧结过程中,Al3O3+ Y2O3被驱动到陶瓷表面,这将阻碍厚膜的附着力,必须通过研磨基板来去除。

对比测试

作为比较的基准,厚膜AlN与行业标准的厚膜BeO和薄膜AlN产品进行了测试。
由于薄膜附着力是主要问题,测试的重点是指出这些类型故障的实验。
为了保持一致性,所有三个系统的测试都在同一部件上进行 - 一个150 W,法兰安装,50端接。
照片中所示的部件是一个 0.250“ x 0.375” 陶瓷芯片,安装在带有 SN96 焊料的镀镍铜法兰上。
对每种系统类型的多个部件进行了引线拉力测试、剪切测试、热循环测试、薄膜温度和电阻饱满性测试。

引线拉力测试

将 0.050 英寸宽、0.006 英寸厚的银带引线焊接到三种类型零件上相同尺寸的导体焊盘上,然后拉至销毁,平均结果如表 2 所示。
这三种系统的水平拉力都非常出色,而薄膜AlN和厚膜BeO的垂直拉力测试似乎更好。

剪切试验

每种类型的零件都用 SN96 焊料焊接到镀镍法兰上,然后破坏性地剪切掉法兰,平均结果如表 3 所示。
纯粹的测试表明,所有体系的初始附着力都非常出色,正如预期的那样,BeO力更好,厚膜AlN略优于薄膜AlN体系。

热循环试验

虽然剪切测试是衡量浆料与陶瓷的初始附着力的良好指标,但零件的热循环可以很好地衡量长期可靠性。
AlN陶瓷和铜法兰之间的热膨胀系数(TCE)差异会在材料中产生应力,该应力必须被焊料/厚膜浆料界面吸收。
零件的热循环可作为出色的加速寿命测试。
在接近恒定的温度下,简单地在零件中耗散功率并不能指示零件的长期可靠性,也不能代表零件的最坏工况。
粘附层必须从热到冷反复受力,才能真正获得粘附层吸收应力而不失效的有用量度。
该测试相当于反复来回弯曲金属棒,直到金属棒断裂。

选择铜法兰材料和 SN96 焊料,以比较加速测量厚膜与陶瓷基板的长期粘附力。
铜的TCE是AlN的TCE的3.6倍,SN96焊料的抗拉强度接近6000psi。
该零件的所有三个版本都用螺栓固定在微处理器控制的冷却板上,法兰下方有少量导热硅脂。
这些部件在额定功率 (DC) 的 100% 和最高法兰温度下循环。
如图 1 所示,循环曲线旨在提供非常加速和恶劣的环境,以加速故障。
结果列于表4中。

所有三个部件在 300 之间都失败了第和 378第热循环。
由于焊料和/或厚膜中形成微裂纹,这些微裂纹随着每个额外的热循环而传播,从而增加了陶瓷和法兰之间的热阻,从而发生了故障。
当热阻增加到整个系统的热梯度变得足够大时,就会建立热失控条件,并且器件会失效。
从数据来看,所有三种系统类型都在同一范围内失败。

胶片温度

三个系统中每个系统的部件都安装在100°C和150 W耗散的受控散热器上。
薄膜温度测量可以很好地指示端接的热阻。
使用红外热探头进行胶片温度测量。
结果列于表5中。
正如预期的那样,由于陶瓷的热阻较低,BeO部分表现出较低的薄膜温度。
薄膜和厚膜AlN部分彼此之间的距离在几度以内。

结论

厚膜AlN陶瓷电阻器件将补充该公司提供的全系列电阻器和端接器。
由于围绕BeO的安全问题,AlN系列将是一个受欢迎的替代方案。
厚膜AlN工艺的可靠性和可重复性取决于AlN陶瓷的正确制备以及专门为AlN开发的浆料的使用。
所提出的测试表明,为AlN陶瓷设计的厚膜浆料的性能至少与薄膜AlN产品一样好,并且接近厚膜BeO产品。

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